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挖Intel大牛/投资300亿!台积电10nm要与三星决一死战
发表日期:2016-11-10作者:sohu.com 出处:it.sohu.com  

  对手三星在移动SoC工艺解决方案上咄咄逼人,

  此前三星在首尔宣布,正式开始10nm FinFET工艺SoC芯片的量产工作,进度业界第一,也就是领先台积电和Intel。

  

  去年,三星率先拿出了首个FinFET工艺的移动AP(应用处理器),也就是我们熟知,立下赫赫战功的Exynos 7420。

  据悉,三星目前的10nm工艺是10LPE(low-power early),也就是早期低功耗版,这一点和14nm时代的进程一致,后续还会有10nm LPP(low power plus, advanced power processing),预计明年下半年量产,可用于更高性能的芯片。

  

  三星称,明年初会正式发布首款消费级的10nm FinFET芯片,毫无疑问,Exynos 8895和骁龙830系列芯片可以放心用了,今天传出的高通10nm转单台积电应该是“不攻自破”了。

  这样的局面下,天字一号代工厂台积电显然有些坐不住。

  据媒体报道,台积电近日通过一次董事会议决定,将在未来拿出49.1亿美元(约合333亿元人民币)产能提高、工厂兴建以及下一代先进制程(7nm/10nm)的研究等。

  这几乎相当于台积电全年销售额的15%左右,雄心还是非常大的。

  除此之外,此次董事会议还宣布,他们从Intel挖来了Kevin Zhang博士作为平台设计副总裁,后者曾在摩托罗拉、惠普等工作。

  

  有着20年IP设计、发展、管理经验,他会负责存储、混合信号、射频RF这块,向Cliff Hou博士汇报。

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